ホットプレート(液晶・半導体熱板の加熱・冷却)
液晶・半導体の製造工程での加熱・冷却。全てオーダーメイドにて製作対応
表面温度の均一性に優れ、高精度の平面度と表面粗さのフェースプレートをご提供。
液晶、半導体工程における熱板の加熱、冷却にご活用いただき、高い評価をいただいております。
高真空下でご使用するホットプレートにも対応いたします。
ご要求に応じたフェースプレート材料と表面処理に対応いたします。
※ホットプレートは全てオーダーメイドにて製作対応いたします。
丸型ホットプレート(大気中用)
液晶、半導体工程における加熱、冷却にご使用いただけます。
全てオーダーメイドにて製作対応いたします。
プレート材質 | アルミ材(ex.A5052,A5056)、Cu材、他 |
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表面処理 | アルマイト処理、無電解ニッケル処理、他 |
表面粗さ | MIN 0.8Ra |
温度センサー | PT100、TC(K)、他 |
外径サイズ | ~300φ用 |
厚みサイズ | 通常30mm |
電圧 | 通常200V |
サンプルデータ(300φHP)
常温・常湿・無風・無負荷状態での測定値です。
実際の使用条件により異なる場合があります。
制御温度 | 200℃ | 300℃ |
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温度均一性保証 | R<1℃ | R<2℃ |
平面度(昇温後) | 0.05mm | 0.1mm |
丸型ホットプレート(真空中用)
プレート材質 | アルミ材を主体 |
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表面処理 | 使用環境に応じて選定 |
表面粗さ | 0.8Ra以下 |
温度センサー | シースタイプTC(K)、他 |
外径サイズ | ~300φ用 |
厚みサイズ | 通常45mm |
電圧 | 通常200V |
サンプルデータ(300φHP)
1×10 Pa真空チャンバー内・無負荷状態での測定値です。
実際の使用条件により異なる場合があります。
制御温度 | 300℃ | 400℃ |
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温度均一性保証 | R<1.5℃ | R<2℃ |
平面度(昇温後) | 0.05mm | 0.1mm |
角型ホットプレート(大気中用)
プレート材質 | アルミ材を主体(ex.A5052) |
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表面処理 | アルマイト処理、他 |
表面粗さ | 1.6Ra以下 |
温度センサー | PT100、TC(K)、他 |
外径サイズ | ~2200×2500mm |
厚みサイズ | 通常50mm |
電圧 | 通常200V |
サンプルデータ(1000×1100mmHP)
常温・常湿・無風・無負荷状態での測定値です。
実際の使用条件により異なる場合があります。
制御温度 | 200℃ | 300℃ |
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温度均一性保証 | R<4℃ | R<6℃ |
平面度(昇温後) | 1.0mm | 2.0mm |
角型ホットプレート(真空中用)
プレート材質 | アルミ材を主体( |
---|---|
表面処理 | 使用環境に応じて選定 |
表面粗さ | 1.6Ra以下 |
温度センサー | シースタイプTC(K)、他 |
外径サイズ | ~1000×1100mm |
厚みサイズ | 通常50mm |
電圧 | 通常200V |
サンプルデータ(1000×1100mmHP)
1×10 Pa真空チャンバー内・無負荷状態での測定値です。
実際の使用条件により異なる場合があります。
制御温度 | 300℃ | 400℃ |
---|---|---|
温度均一性保証 | R<8℃ | R<12℃ |
平面度(昇温後) | 1.0mm | 2.0mm |
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